低對(duì)比度檢測(cè)模體
簡(jiǎn)要描述:低對(duì)比度檢測(cè)模體,1、尺寸:265x265x10mm,2、材質(zhì):PMMA操作程序:1、放置在探測(cè)器上面,應(yīng)用合適條件進(jìn)行曝光。2、模體上含有15行和15列方形區(qū)分布225個(gè)方格組成的矩陣,每個(gè)方格中前三行僅有1個(gè)檢查點(diǎn)(成像點(diǎn)),其他行有2個(gè)測(cè)點(diǎn),1個(gè)在方格中央,另1個(gè)隨機(jī)分布在1個(gè)角落中,共計(jì)405個(gè)地對(duì)比度。
- 產(chǎn)品型號(hào):訂制
- 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間:2024-03-25
- 訪 問(wèn) 量:587
低對(duì)比度檢測(cè)模體
產(chǎn)品編號(hào):SY20240322-8低對(duì)比度檢測(cè)模體
產(chǎn)品廠家:廊坊玉雙儀器設(shè)備有限公司
產(chǎn)品介紹:技術(shù)參數(shù):
1、尺寸:265x265x10mm
2、材質(zhì):PMMA
4、操作程序:
1、放置在探測(cè)器上面,應(yīng)用合適條件進(jìn)行曝光。
2、模體上含有15行和15列方形區(qū)分布225個(gè)方格組成的矩陣,每個(gè)方格中前三行僅有1
個(gè)檢查點(diǎn)(成像點(diǎn)),其他行有2個(gè)測(cè)點(diǎn),1個(gè)在方格中央,另1個(gè)隨機(jī)分布在1個(gè)角落中,
共計(jì)405個(gè)地對(duì)比度。
3、檢查點(diǎn)的光密度比之均勻背景光密度高,檢測(cè)點(diǎn)深度和直徑早對(duì)數(shù)變化,直徑范圍:0.3-8.0mm,深度范圍:0.3-8.0mm(精度:0.01mm)
5、模體上所以標(biāo)記不透明,X射線成像可見。
6、在觀片燈箱上觀察模體影像,記錄影像中可探測(cè)到的最小細(xì)節(jié)。
5、檢測(cè)技術(shù)依據(jù):
《計(jì)算機(jī)X射線攝影(CR)質(zhì)最控制檢測(cè)規(guī)范》(WS520-2017)《醫(yī)用數(shù)字X射線攝影(DR)系統(tǒng)控制質(zhì)最檢測(cè)規(guī)范》(WS521-2017)
產(chǎn)品編碼:SY20240322-8低對(duì)比度檢測(cè)模體
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